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中國(guó)給水排水2021年中國(guó)污水處理廠提標(biāo)改造(污水處理提質(zhì)增效)高級(jí)研討會(huì) (第五屆)邀請(qǐng)函暨征稿啟事
 
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2021中國(guó)(深圳)國(guó)際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會(huì)

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展會(huì)日期 2021-08-23 至 2021-08-25
展出城市 深圳
展出地址 深圳國(guó)際會(huì)展中心 (寶安)
展館名稱(chēng) 深圳國(guó)際會(huì)展中心 (寶安)
主辦單位 2021中國(guó)(深圳)國(guó)際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會(huì)-組委會(huì)

展會(huì)說(shuō)明
2021中國(guó)(深圳)國(guó)際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會(huì)
時(shí)間:2021年8月23-25日     地點(diǎn):深圳國(guó)際會(huì)展中心  (寶安)
█展會(huì)背景
微電子技術(shù)的發(fā)展一直是光刻設(shè)備和技術(shù)變革的動(dòng)力,21世紀(jì)光刻技術(shù)將繼續(xù)居于諸多技術(shù)之首。光刻技術(shù)從誕生以來(lái),在半導(dǎo)體加工制造行業(yè)中,作為圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)而廣為應(yīng)用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導(dǎo)體加工技術(shù)中最為關(guān)鍵的光刻技術(shù)和光刻工藝設(shè)備,必將發(fā)生顯著的變化。
隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,高端芯片的集成度達(dá)到了數(shù)千乃至數(shù)億晶體管,推動(dòng)芯片封裝技術(shù)向更高密度、更高性能發(fā)展,在傳統(tǒng)的接近/接觸式光刻機(jī)日趨無(wú)法滿(mǎn)足高性能、高密度、低成本的先進(jìn)封裝工藝發(fā)展需求的情況下,先進(jìn)的大視場(chǎng)、大焦深、高精度投影光刻機(jī)逐步成為先進(jìn)封裝生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備。由亨勱會(huì)展(上海)有限公司于眾多協(xié)會(huì)攜手在深圳會(huì)展中心舉辦“2021中國(guó)(深圳)國(guó)際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會(huì)暨發(fā)展論壇”,歡迎廣大相關(guān)單位參展、參觀!                                               
█日程安排:
報(bào)到布展:2021年8月21-22日   展出時(shí)間: 2021年8月23-25日
展出地點(diǎn):深圳國(guó)際會(huì)展中心  (寶安)
█頂級(jí)盛會(huì)(大會(huì)設(shè)贊助、協(xié)辦單位,詳情請(qǐng)致電組委會(huì))
品牌展示 高層論壇 行業(yè)用戶(hù)洽談會(huì) 外商采購(gòu)會(huì) 新技術(shù)新產(chǎn)品發(fā)布會(huì)  
“搭建國(guó)際采購(gòu)貿(mào)易平臺(tái)、促進(jìn)企業(yè)交流合作、提高參展效果”
                                                           ————將是我們的目標(biāo)!
◆規(guī)?涨——展出面積35,000平方米,國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)展位共800個(gè),超30000名專(zhuān)業(yè)觀眾
◆商機(jī)無(wú)限—采購(gòu)商云集,光刻設(shè)備與掩膜技術(shù)行業(yè)巨大商機(jī)全面彰顯,接觸分享全球光刻設(shè)備與掩膜技術(shù)行業(yè)市場(chǎng)潛力
◆技術(shù)薈萃—國(guó)內(nèi)外最新產(chǎn)品及成果薈萃,展會(huì)-論壇-經(jīng)貿(mào)合作,是企業(yè)宣傳及市場(chǎng)開(kāi)拓的高效平臺(tái)
◆項(xiàng)目匯聚—每年一度的行業(yè)例會(huì),貿(mào)易對(duì)口洽談,國(guó)際貿(mào)易公司定點(diǎn)采購(gòu),是會(huì)展招商的重要平臺(tái)
█展品范圍:
◆曝光光源、光學(xué)系統(tǒng)、電系統(tǒng)、機(jī)械系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等;
◆光刻機(jī)、光刻技術(shù)、步進(jìn)投影光刻機(jī)、掃描投影光刻機(jī)、納米光刻技術(shù)、無(wú)掩模光刻技術(shù)、沉浸式光刻技術(shù)、準(zhǔn)分子激光光刻技術(shù)、極紫外光刻機(jī)、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術(shù)、微光刻技術(shù)、電子束曝光機(jī)、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機(jī)、光刻機(jī)零部件、光刻前處理材料、曝光系統(tǒng)、光刻-掩模無(wú)機(jī)芯片與加工系統(tǒng)、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設(shè)備等;
◆光掩膜、鉻版、干版,凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設(shè)備、光掩模測(cè)試等; 
█觀眾范圍:
◆展會(huì)將邀請(qǐng)全國(guó)、省、市、各相關(guān)科研單位:電子、微電子、光電子、集成電路、半導(dǎo)體、微/納電機(jī)系統(tǒng)、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、航空航天、國(guó)防軍工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽(yáng)能、印刷、影像等制造業(yè)、大學(xué)、研究所、咨詢(xún)機(jī)構(gòu)和公共機(jī)構(gòu)的專(zhuān)家代表等人員到會(huì)參觀、洽談。
◆預(yù)計(jì)展覽會(huì)將吸引來(lái)自中國(guó)、日本、歐洲、北美、韓國(guó)、臺(tái)灣等國(guó)家和地區(qū)的決策者和專(zhuān)業(yè)人士。來(lái)自各國(guó)的參展商可以在展會(huì)中面對(duì)面會(huì)見(jiàn)極具潛力的應(yīng)用客戶(hù)群和合作伙伴。參展商通過(guò)光刻設(shè)備與光掩膜技術(shù)展會(huì),進(jìn)一步發(fā)展中國(guó)和亞洲地區(qū)市場(chǎng)。
█參展細(xì)則  標(biāo)準(zhǔn)展位費(fèi)用:(注:雙面開(kāi)口加10%開(kāi)口費(fèi))
展位規(guī)格 國(guó)內(nèi)企業(yè) 合資企業(yè) 外資企業(yè)
標(biāo)準(zhǔn)展位(3m*3m)9㎡ RMB 15000/9㎡展期 RMB 17000/9㎡展期 USD 3000/9㎡展期
光地(36 ㎡) RMB 1600/ ㎡展期 RMB 1800/ ㎡展期 USD 300/ ㎡展期
◆標(biāo)準(zhǔn)展位費(fèi)用:包括展出場(chǎng)地、2.5m高壁板、楣牌制作、9平方米地毯、洽談桌一張、椅子二把、10A/220V 單相插座一個(gè),射燈二支。 
◆空?qǐng)龅夭粠魏握辜芗霸O(shè)施,參展商自行安排特殊裝修工作或委托組織單位推薦的搭建公司。
◆廣告刊例 
注:會(huì)刊規(guī)格(135mm * 210mm)、進(jìn)口銅版紙、版面內(nèi)容由展商自行設(shè)計(jì)。
封面 封二 封三 封底 扉頁(yè) 彩色整版 黑白整版 文字簡(jiǎn)介
25000元 18000元 12000元 18000元 12000元 6000元 4000元   2000元
◆新技術(shù)發(fā)布會(huì)、新產(chǎn)品推廣會(huì),專(zhuān)題研討會(huì)
主辦單位計(jì)劃在展覽期間開(kāi)展一系列新產(chǎn)品新技術(shù)發(fā)布會(huì)、新產(chǎn)品推廣會(huì)、產(chǎn)品專(zhuān)題研討會(huì),參展商可以獲得研討會(huì)優(yōu)先贊助權(quán),有關(guān)公司可以自主確定報(bào)告內(nèi)容,負(fù)責(zé)提供相關(guān)文件,每家贊助公司可以自定邀請(qǐng)觀眾數(shù)量。
★每場(chǎng)收費(fèi)20,000元RMB,時(shí)間為45分鐘(含場(chǎng)地各類(lèi)配套設(shè)施、宣傳費(fèi)用等)
█參展事項(xiàng)
1、參展單位詳細(xì)填寫(xiě)好《參展合同表》并加蓋公章,郵寄或傳真至組委會(huì);
2、組委會(huì)收到確認(rèn)申請(qǐng)表,參展商于3個(gè)工作日內(nèi)將參展費(fèi)用50%或全款匯入組委會(huì)帳戶(hù),并將匯款憑證傳真至組委會(huì)以便查對(duì),否則不予保留預(yù)訂展位。
3、展位安排以“先報(bào)名、先交款、先安排”為原則,組委會(huì)有權(quán)對(duì)少量展位予以調(diào)整;
4、展品運(yùn)輸、展會(huì)接待、住宿等事宜將在開(kāi)展前一個(gè)月組委會(huì)另行發(fā)送《參展商手冊(cè)》。
                                                                                  
2021中國(guó)(深圳)國(guó)際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展組委會(huì) 
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